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  • MGD20-20高低溫恒溫循環槽
    MGD20-20高低溫恒溫循環槽

    高低溫恒溫循環槽(-20℃~180℃),MGD20-20實現高溫195℃,低溫-20℃恒溫測試,為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動度達到±0.1℃, 應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環應用。

    更新時間:2022-06-15型號:MGD20-20
  • G200系列高溫恒溫槽
    G200系列高溫恒溫槽

    高溫恒溫槽用于產品性能分析測試、計量檢定、化學反應工藝過程控制、普通溫度計及其它溫度測量儀表制造中的定標用途。

    更新時間:2022-06-16型號:G200系列
  • MGD40-20高低溫一體恒溫槽
    MGD40-20高低溫一體恒溫槽

    高低溫一體恒溫槽MGD40-20為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源, 應用于-40℃~180℃(高至溫度195℃)石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環應用

    更新時間:2022-06-15型號:MGD40-20
  • MGD20-30高低溫恒溫循環槽(-20℃~180℃)
    MGD20-30高低溫恒溫循環槽(-20℃~180℃)

    高低溫恒溫循環槽(-20℃~180℃),MDG20-30實現高溫195℃,低溫-20℃恒溫測試,為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動度達到±0.1℃, 應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環應用。

    更新時間:2020-06-30型號:MGD20-30
  • MGD40-54高低溫恒溫槽(-40℃~180℃)
    MGD40-54高低溫恒溫槽(-40℃~180℃)

    MDG40-54-高低溫恒溫槽(-40℃~180℃)實現高溫195℃,低溫-40℃恒溫測試,為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動度達到±0.1℃, 應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環應用。

    更新時間:2019-04-23型號:MGD40-54
  • 加熱制冷循環器MGD20-100
    加熱制冷循環器MGD20-100

    加熱制冷循環器MGD20-100

    更新時間:2021-11-30型號:
  • 高低溫恒溫槽MGD40-100
    高低溫恒溫槽MGD40-100

    高低溫恒溫槽MGD40-100

    更新時間:2021-11-30型號:
  • 高低溫恒溫槽MGD40-12
    高低溫恒溫槽MGD40-12

    高低溫恒溫槽MGD40-12

    更新時間:2021-11-30型號:
  • 高低溫恒溫槽MGD40-30
    高低溫恒溫槽MGD40-30

    高低溫恒溫槽MGD40-30

    更新時間:2021-11-30型號:
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